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1200C單溫區(qū)多通道高真空組合式CVD系統(tǒng)OP-1200-TSZG

OP-1200-TSZG 是一款專為科研和工業(yè)應用設計的高性能單溫區(qū)多通道低真空組合式化學氣相沉積（CVD）系統(tǒng)。這款系統(tǒng)是由1200℃單溫區(qū)管式爐、多通道質量流量供氣系統(tǒng)及高真空機系統(tǒng)組成。這款系統(tǒng)具有出色的溫度控制精度、穩(wěn)定性和可靠性，適用于真空或氣氛保護下各種材料的生長和制備，如半導體材料、納米材料、薄膜材料等。

400-878-2836

技術資料

相關產品

應用領域	電子行業(yè): 用于制備各種金屬薄膜、氧化物薄膜、導電膜等；半導體行業(yè): 用于制備多層膜、二氧化硅薄膜、氮化物薄膜等；光學行業(yè): 用于制備各種光學薄膜、增透膜、反射膜等，其他領域:如生物醫(yī)學、新能源材料等領域也有廣泛的應用。
管式爐特點	模塊化:模塊化設計維護便捷，組合靈活；雙層風冷殼體結構；采用真空成型工藝制作的耐火保溫材料，熱損耗小，有效地降低了設備的使用功率；氧化鋁管塞可幫助您在管內建立完美的溫度梯度；觸摸屏操作，直觀顯示溫度曲線；具有全程非線性溫度修正；具有預約啟動功能，節(jié)約燒結時間；
加熱元件	HRE高溫合金絲
爐膛材質	高純氧化鋁纖維材料
測溫元件	K型熱電偶(1根）
最高工作溫度	1200℃（<2h） 1150℃（長期工作溫度）
升降溫速率	≤20℃/min
加熱區(qū)長度	200mm
溫控系統(tǒng)	采用7寸真彩觸屏輸入、精密溫度控制器 PID方式控制，通過可控硅 SCR 可預存15條30段升降溫曲線，避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩；嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，智能式人機對話模式，實驗過程更加直觀，操作更加便捷；非線性式樣溫度修正；帶有超溫及斷偶保護
控溫精度	±1℃
爐管材質和尺寸	爐管材質：高純石英管外徑: 50 mm：內徑: 45mm600 mm L（標配）外徑: 25 mm：內徑: 20mm 600 mm L（選配）
密封法蘭	一套不銹鋼密封法蘭，法蘭上已經安裝機械壓力表和密封閥門漏率達5X10-9 Pam3/s
輸入電源	AC 220V, 單相, 50/60Hz, 功率：1.2KW
真空系統(tǒng)和配件	機械泵：抽氣速率4L/S 分子泵：抽氣速率100L/S 極限壓強：6X10^-6Pa 額定轉速：43000轉/分冷卻方式：風冷/水冷分子泵控制電源：220V 輸出頻率：高速704Hz±10% 低速430 Hz±10% 電離規(guī)管測量范圍：100~10^-5Pa 電阻規(guī)管測量范圍：105～10^-1pa 連接管件：高真空手動隔斷閥采用氟膠圈密封快卸法蘭接口漏率：達5X10^-9 Pam³/s 全不銹鋼電拋光制作零件焊接漏率優(yōu)于1×10^-9Pa.m³/s
氣體流量計	壓差范圍：0.05-0.4MPa 精度：±1% FS 重復精度：±0.2% FS 流量范圍：50、100、200、500、1000Sccm可供客戶選擇流量計類型：進口質量流量器接口尺寸：Φ6.35mm雙卡套接頭連接管道：采用潔凈拋光的氣路專用耐腐不銹鋼管或耐腐蝕抗老化的聚四氟乙烯氣管（可選）氣體轉換系數：系統(tǒng)可按要求自動轉換不同氣體密度，顯示正確流量。
外形尺寸	爐體尺寸：780450 350mm 混氣系統(tǒng)：700700650mm 真空機組：700700650mm
質保期	一年保修，終身技術支持。特別提示：1.耗材部分如加熱元件，爐管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。