設(shè)備簡(jiǎn)介：

    PLJ13離子濺射儀為掃描電鏡制作樣品而設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作使用直觀方便等特點(diǎn)。不需要很高的真空度就可以對(duì)掃描電鏡樣品進(jìn)行離子濺射，可作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設(shè)備。

設(shè)備特點(diǎn)：

   1、采用4C靜音真空泵，各方面降噪，提升實(shí)驗(yàn)感受；

   2、標(biāo)配樣品室真空表和濺射電流表，實(shí)時(shí)顯示和監(jiān)控儀器狀態(tài)；

   3、邊緣橡膠密封圈，長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象。

   4、配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結(jié)合自動(dòng)控制電路，輕松控制真空室壓強(qiáng)、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得很好的鍍膜效果；

   5、標(biāo)配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大；

濺射速度：

    一般來(lái)說(shuō)，用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗(yàn)法測(cè)定厚度，可由下面的公式得到d = KIVT‘其中： d：是鍍膜厚度(單位?)，K：是常數(shù)，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時(shí)K為0.17，金靶和空氣K為0.07)，此時(shí)靶與樣品之間的距離I： 是等離子流(單位mA)

V：是所施電壓(單位kv)，T”是時(shí)間(單位s)。

    例如采用金靶和氬氣，l為8mA,T為100秒，V為1KV，則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?

即每秒1.36?，濺射速度依賴(lài)于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度，因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。

    其它金屬靶的濺射速度，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。

注意事項(xiàng)：

      1、靶材的更換

先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭，拿下濺射蓋板，松開(kāi)三只頂絲，拿下保護(hù)板，然后擰下壓環(huán)就可以更換新靶。

    2、真空工作室清洗

腔體工作室用無(wú)水乙醇、丙酮清洗，以保證系統(tǒng)能正常工作。

    3、針閥使用

針閥關(guān)閉后再反向擰兩圈，以防止針閥長(zhǎng)時(shí)間不用出現(xiàn)閥針回彈不靈活的現(xiàn)象。如遇到打開(kāi)針閥時(shí)不向工作室放氣，請(qǐng)將針閥鈕擰到底后再重新打開(kāi)即可。