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氟化鑭(LaF3)晶體基片

氟化鑭(LaF3)晶體基片廣泛應(yīng)用于紅外窗口和紫外窗口,棱鏡基片。

技術(shù)資料

相關(guān)產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱

LaF3晶體基片

技術(shù)參數(shù)

晶體結(jié)構(gòu):三方晶系

晶格常數(shù): a=7.190 ?   c=7.367 ?

純度:99.99%

密度:5.936 g/cm3

硬度:4.5 Mohs

熔點(diǎn):1493℃

生長方向:<0001>

熱膨脹系數(shù):11.9  x10-6/ K // c  15.8  x10-6/ K // a   

熱導(dǎo)率:5.1 W / m.k @ 300K

光傳輸范圍:Up to 10.5 micron wavelength 

折射率 no : 1.63   ne: 1.597  

生長方法:提拉法

產(chǎn)品規(guī)格

常規(guī)晶向: <10-10>、<11-20>、<0001> 

常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm

拋光情況:單拋、雙拋

標(biāo)準(zhǔn)包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝

晶體缺陷

人工生長單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。