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1200℃雙溫區(qū)雙通道混氣低真空 CVD系統(tǒng)OP-1200-T2Z2D(一體 機)

OP-1200-T2Z2D(一體機)是一款1200℃ 雙溫區(qū)雙通道混氣低真空CVD系統(tǒng),主要用于半導體、光電子、納米材料等領域的薄膜沉積。

技術資料

相關產品

應用領域

1、電子行業(yè): 用于制備各種金屬薄膜、氧化物薄膜、導電膜等:

2、半導體行業(yè): 用于制備多層膜、二氧化硅薄膜、氮化物薄膜等

3、光學行業(yè): 用于制備各種光學薄膜、增透膜、反射膜等,其他領域:如生物醫(yī)學、新能源材料等領域也有廣泛的應

產品特點

1、高效率: 采用CVD氣相沉積技術,可以在短時間內實現(xiàn)高質量的薄膜沉積,

2、精準控制:通過調節(jié)氣體流量、溫度、壓力等參數(shù),可以實現(xiàn)對沉積速度和沉積厚度的精準控制

3、可定制性:可根據(jù)客戶需求,定制不同的沉積模板和沉積條件,以滿足不同材料的制備要求

4、操作簡便:自動化控制系統(tǒng)和友好的人機界面,使得操作更加簡單方便

加熱爐參數(shù)

功率:220V 4KW

爐膛材質:高純氧化鋁多晶纖維材料+氧化鋁涂層材料

爐膛結構:雙層殼體加風冷隔熱

加熱元件:進口HRE高溫合金電阻絲

可達溫度:1200℃(<1小時)

連續(xù)溫度:1150℃(連續(xù))

溫度精度:±1℃

熱電偶:K型熱電偶(1根)

推薦升溫速率:≤20℃/分鐘

加熱區(qū)尺寸:200+200400mm

爐管與法蘭

標配Φ60*1000mm高純石英管一根,可選配Φ50/Φ80/Φ100*1000mm的石英管

標配一套不銹鋼密封法蘭;采用硅膠密封圈密封,包含鎧裝測溫接口(Φ8m)漏率達5X10-9 Pam3/s;

采用帶有減震油的機械壓力表,使壓力波動時產生阻尼,減小指針來回擺動

選配KF25或KF40接頭

真空系統(tǒng)

真空度:采用機械泵組可達到5*10-1Pa(標配),采用分子泵組可達到5*10-3Pa(選配)

抽速m/h(L/s):4(1.1)

極限分壓強-無氣鎮(zhèn)(Pa):5×10-2

進排氣連接口DN(mm):KF25

用油量(L):0.6L

壓阻皮拉尼復合型規(guī)管:

測量范圍:1.0×10-2~1.067×105Pa

測量精度:1.0*103Pa ~1.067*105 Pa   ±0.15%的滿量程

1.0×10-1~1.0×102Pa   ±10%的讀數(shù)

高真空手動擋板閥:KD25

波紋管:KF25*800

油霧過濾器:KF25

卡箍及鏈接管件(焊接):采用KF25全不銹鋼,電拋光制作,零件焊接漏率優(yōu)于1×10-9Pa.m3/s

供氣系統(tǒng)

? 兩通道進口品牌質量流量計控制系統(tǒng)可實現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.01%);

? 量程可選范圍:(50/100/200/500/1000SCCM)

? 壓差范圍:0.05-0.4MPa

? 精度:±1% FS

? 重復精度:±0.2% FS

? 氣體進出口配件:Φ6.35mm的聚四氟管或不銹鋼管;

? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出;

? 集成式PLC觸摸屏可以統(tǒng)一簡便地進行氣體流量設置。

控制系統(tǒng)可預存15條溫度曲線,避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩
工藝存儲界面.jpg程序設置.png
嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話模式實驗過程更加直觀,操作更加便捷;
CVD主界面.jpg
非線性式樣溫度修正;具有預約啟動功能
非線性溫度修正.jpg預約界面.png
具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能
溫區(qū)超溫.jpg熱電偶斷線.jpg
產品尺寸1100mm*1250mm*750mm
重量 kg
質保

一年保修,終身技術支持。

特別提示:1.耗材部分如加熱元件,爐管,樣品坩堝等不包含在內。

                 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。