1500℃ 單溫區(qū)雙通道混氣低真空 CVD系統(tǒng)TP-1500-TZ2D(一體 機)
技術資料
相關產(chǎn)品
應用領域 | 1、電子行業(yè): 用于制備各種金屬薄膜、氧化物薄膜、導電膜等: 2、半導體行業(yè): 用于制備多層膜、二氧化硅薄膜、氮化物薄膜等 3、光學行業(yè): 用于制備各種光學薄膜、增透膜、反射膜等,其他領域:如生物醫(yī)學、新能源材料等領域也有廣泛的應用 | |
產(chǎn)品特點 | 1、高效率: 采用CVD氣相沉積技術,可以在短時間內(nèi)實現(xiàn)高質(zhì)量的薄膜沉積, 2、精準控制:通過調(diào)節(jié)氣體流量、溫度、壓力等參數(shù),可以實現(xiàn)對沉積速度和沉積厚度的精準控制 3、可定制性:可根據(jù)客戶需求,定制不同的沉積模板和沉積條件,以滿足不同材料的制備要求 4、操作簡便:自動化控制系統(tǒng)和友好的人機界面,使得操作更加簡單方便 | |
加熱爐參數(shù) | 設備功率:220V 4KW 爐膛材質(zhì):高純氧化鋁纖維材料 加熱元件:硅碳棒(8根) 可達溫度:1500℃(<1小時) 連續(xù)溫度:1450℃(連續(xù)) 溫度精度:±1℃ 熱電偶:S型熱電偶 推薦升溫速率:0-1000℃≤10℃/分鐘, 1000-1400℃≤5℃/分鐘 爐膛尺寸:Φ150mm*310mm 加熱區(qū)長度:310mm | |
爐管與法蘭 | 標配Φ60*1000mm高純剛玉管一根,可選配Φ50/Φ80/Φ100*1000mm的石英管 標配一套不銹鋼密封法蘭;采用硅膠密封圈密封,包含鎧裝測溫接口(Φ8m)漏率達5X10-9 Pam3/s; 采用帶有減震油的機械壓力表,使壓力波動時產(chǎn)生阻尼,減小指針來回擺動 選配KF25或KF40接頭 | |
真空系統(tǒng) | 真空度:采用機械泵組可達到5*10-1Pa(標配) 抽速m/h(L/s):4(1.1) 極限分壓強-無氣鎮(zhèn)(Pa):5×10-2 進排氣連接口DN(mm):KF25 用油量(L):0.6L 壓阻皮拉尼復合型規(guī)管: 測量范圍:1.0×10-2~1.067×105Pa 測量精度:1.0*103Pa ~1.067*105 Pa ±0.15%的滿量程 1.0×10-1~1.0×102Pa ±10%的讀數(shù) 高真空手動擋板閥:KD25 波紋管:KF25*800 油霧過濾器:KF25 卡箍及鏈接管件(焊接):采用KF25全不銹鋼,電拋光制作,零件焊接漏率優(yōu)于1×10-9Pa.m3/s | |
供氣系統(tǒng) | 設備含兩路質(zhì)量流量控制器(50、100、200、500Sccm可選) 壓差范圍:0.05-0.4MPa 精度:±1% FS 重復精度:±0.2% FS 接口尺寸:Φ6.35mm雙卡套接頭 連接管道:采用潔凈拋光的氣路專用耐腐不銹鋼管 接口尺寸:6.35mm雙卡套連接 金屬管路:材質(zhì):SUS316 φ外:6.35mm φ內(nèi):4mm | |
控制系統(tǒng) | 可預存15條溫度曲線,避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩 | |
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嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話模式實驗過程更加直觀,操作更加便捷; | ||
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非線性式樣溫度修正;具有預約啟動功能 | ||
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具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能 | ||
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產(chǎn)品尺寸 | 1100mm*1250mm*750mm | |
重量 | kg | |
質(zhì)保 | 一年保修,終身技術支持。 特別提示:1.耗材部分如加熱元件,爐管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |

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